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什么样金属含量的不锈钢靶材在真空镀膜时,能增加产品的耐磨损力?
你可以用S136 材料。这是制做镜面模具常用的不锈钢材料，材料耐磨性相对其它不锈钢要好。
真空镀膜过程中，各种高纯度金属靶材起着关键作用。
有关系，当然是靶材的纯度越高越好。杂质多了，薄膜附着力指定差。
什么是溅射靶材?
1、磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。
2、溅射（Sputtering）是一种物理气相沉积（PVD）的方法，用于制备薄膜。在溅射过程中，一个被称为“靶材”（Target）的固体材料被离子轰击，从而将靶材的原子或分子“溅射”出来，这些溅射出来的原子或分子随后在基材（如硅片、玻璃片等）上凝结形成薄膜。
3、靶材是制备薄膜的主要材料之一。利用高速荷能粒子轰击目标材料，与不同的激光（离子束）和不同的靶相互作用，获得不同的膜系，实现传导和阻隔功能。因此，靶材也被称为“溅射靶材”。
4、靶材的溅射沉积是一种物理气相沉积(PVD)技术，广泛应用于薄膜材料的制备，如导电层、磁性材料、光学膜等。该技术利用离子或原子在电场作用下高速撞击固体靶材表面，导致靶材原子从表面剥离并沉积在基片上形成薄膜。
5、靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。
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